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PE CVD炉和各种真空设备中常用的气体质量流量控制器有哪些



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产品简介:

  质量流量控制器和质量流量计具有响应速度快,稳定性能优越、准确度高、优良的耐腐蚀性,宽压力范围、线性度出色。目前使用在电子工艺设备,如扩散、外延、氧化、CVD、等离子刻蚀、溅射、离子注入;以及镀膜设备、光纤熔炼、微反应装置、混气配气系统、催化装置、毛细管测量、气相色谱仪及其他分析仪器等行业中。

  模拟型和数字型的热式气体质量流量控制器主要是通过0-5V、4-20mA信号或RS485 modbus协议,来进行数据通信,目前在PE CVD真空设备中使用,等离子体增强化学的气相沉积法。这种方法有很多优点,比如成膜质量好等。PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。PECVD:是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很。

  热式流量计传感器包含两个传感元件,一个速度传感器和一个温度传感器。它们自动地补偿和校正气体温度变化。仪表的电加热部分将速度传感器加热到高于工况温度的某一个定值,使速度传感器和测量工况温度的传感器之间形成恒定温差。当保持温差不变时,电加热消耗的能量,也可以说热消散值,与流过气体的质量流量成正比,它适合单一气体和固定比例多组份气体的测量。



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